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HTR-01 桌式4英寸快速退火炉
| 型 号： | |
| 报 价： | 1 |
HTR-01A快速退火炉系列采用红外辐射加热技术，可实现1-10片样品同时进行，可实现4寸晶圆片吋样品快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。
主要应用领域：
快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RT
HTR-01 桌式4英寸快速退火炉的详细资料：
HTR-01 桌式4英寸快速退火炉
HTR-01A快速退火炉系列采用红外辐射加热技术，可实现1-10片样品同时进行，可实现4寸晶圆片吋样品快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。
主要应用领域：
快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN);离子注入/接触退火;
金属合金;
热氧化处理;
化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火;
太阳能电池片退火;高温退火;
高温扩散。
产品特点
●快速加热和降温:最高可控升温速率可达50 ℃/s，特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率，特定条件下可达30 ℃/s。
●精确控温:采用工业级温控器进行PID精确控温，目标温度与设定温度曲线一致性高，可实现室温至1200 ℃的温度精确控制。
●适应多种工艺环境:满足多种工艺气氛下的热处理（氮气、氩气等）。同时，通过选配真空泵，可以在真空条件下进行退火，最高真空度可达10-5Pa。
●配备观察窗口:通过观察窗口，可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时，可以结合相关测试方法进行原位测试分析。
●超高安全系数:采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统，保障仪器使用安全。
●售后服务：，能快速反应客户售后需求。
最大样品尺寸 |
4英寸（直径20mm） |
控温范围 |
RT~1200℃ |
升温速率(max) |
50℃/s |
高温段降温速率（max） |
600℃/min |
温度均匀性 |
≦1% |
控温精度 |
±0.1℃ |
气体流量 |
标配1路，可扩展至多路 |
放样管径 |
Ф210mm*320mm |
放样数量 |
4-10个 |
真空度 |
真空度可以达到10-5 |
控制方式 |
支持真空、氧化、还原、惰性气体等工艺气氛，也可设置通过软件控制真空及通气时间 |
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